Trifluorur de nitrogen (NF3) Gas d'alta puresa
Informació bàsica
| CAS | 7783-54-2 |
| EC | 232-007-1 |
| UN | 2451 |
Quin és aquest material?
El trifluorur de nitrogen (NF3) és un gas incolor i inodor a temperatura ambient i pressió atmosfèrica. Es pot liquar sota pressió moderada. NF3 és estable en condicions normals i no es descompon fàcilment. Tanmateix, es pot descompondre quan s'exposa a altes temperatures o en presència de determinats catalitzadors. NF3 té un alt potencial d'escalfament global (GWP) quan s'allibera a l'atmosfera.
On utilitzar aquest material?
Agent de neteja a la indústria electrònica: NF3 s'utilitza àmpliament com a agent de neteja per eliminar contaminants residuals, com ara òxids, de les superfícies dels semiconductors, panells de pantalla de plasma (PDP) i altres components electrònics. Pot netejar eficaçment aquestes superfícies sense danyar-les.
Gas de gravat en la fabricació de semiconductors: NF3 s'utilitza com a gas de gravat en el procés de fabricació de semiconductors. És especialment eficaç per gravar el diòxid de silici (SiO2) i el nitrur de silici (Si3N4), que són materials comuns utilitzats en la fabricació de circuits integrats.
Producció de compostos de fluor d'alta puresa: NF3 és una font valuosa de fluor per a la producció de diversos compostos que contenen fluor. S'utilitza com a precursor en la producció de fluoropolímers, fluorocarburs i productes químics especials.
Generació de plasma en la fabricació de pantalles de pantalla plana: NF3 s'utilitza juntament amb altres gasos per crear plasma en la producció de pantalles de pantalla plana, com ara pantalles de cristall líquid (LCD) i PDP. El plasma és essencial en els processos de deposició i gravat durant la fabricació de panells.
Tingueu en compte que les aplicacions i regulacions específiques per a l'ús d'aquest material/producte poden variar segons el país, la indústria i la finalitat. Seguiu sempre les directrius de seguretat i consulteu un expert abans d'utilitzar aquest material/producte en qualsevol aplicació.
